Art

J-GLOBAL ID：200902272651082465   Reference number：04A0512721

Acid Components in Outgassing from F₂ Resists: A Study Using In-Situ QCM Technique

F₂レジストからのガス放出中の酸成分: その場QCM法を用いる試験

Author (5)： SHIRAIA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TAKASHIBA S (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  HORIGUCHI Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  IRIE S (Semiconductor Leading Edge Technologies, Ibaraki, JPN) ,  ITANI T (Semiconductor Leading Edge Technologies, Ibaraki, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 17  Issue： 4  Page： 645-650  Publication year： 2004 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： microbalance ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=04A0512721&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0202A") }}

JST classification (2)： Other reactions of polymer  (CG03040H) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (2)： Methacrylic acid 2-(dimethylamino)ethyl ,  Styrene

Reference (13)：

• 1. C. G. Willson, B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. R. Chambers, Y-T. Hsieh, T. Chiba, P. Zimmerman, D. Miller, W. Conley, J. Photopolym. Sci. Technol., 15, (2002) 583.
• 2. H. Ito, H. D. Troung, M. Okazaki, D. C. Miller, N. Fender, P. J. Brock, G. M. Wallraff, C. E. Larson and R. D. Allen, J. Photopolym. Sci. Technol., 15, (2002) 591.
• 3. C. K. Ober, K. Douki, V. R. Vohra, Y-J. Kwark, X-Q. Liu, W. Conley, D. Miller and P. Zimmerman, J. Photopolym. Sci. Technol., 15, (2002) 603.
• 4. T. Shinozuka, M. Shirai and M. Tsunooka, J. Photopolym. Sci. Technol., 13, (2000) 751.
• 5. M. Shirai, T. Yamamoto and M. Tsunooka, Polym. Degrad. Stab., 63, (1999) 481.

Terms in the title (5)： レジスト ,  ガス放出 ,  酸 ,  QCM法 ,  試験