Art

J-GLOBAL ID：200902274699177681   Reference number：04A0543852

Imprint/Photo Hybrid Lithography Using Conventional Contact Aligner

通常の接触アライナを用いたインプリント/フォトハイブリッドリソグラフィー

Author (3)： KAWATA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  HIRAI Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  KIKUTA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 43  Issue： 6B  Page： 4027-4030  Publication year： Jun. 30, 2004 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： photolithography ,...
Semi thesaurus term： aligner ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (6)：

• 1) S. Y. Chou, P. R. Krauss and R. J. Renstorm: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 3114.
• 2) Y. Hirai, S. Yoshida, N. Takagi, Y. Tanaka, H. Yabe, K. Sasaki, H. Sumitani and K. Yamamoto: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 3863.
• 3) X. Cheng and L. J. Guo: Abstr. 48th Int. Conf. Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication, (Tampa, Florida, 2003) p. 441.
• 4) H. Hiroshima, S. Inoue, N. Kasahara and J. Taniguchi: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4173.
• 5) Y. Hirai, S. Yoshida, A. Okamoto, Y. Tanaka, M. Endo, S. Irie, H. Nakagawa and M. Sasago: J. Photopolym. Sci. Technol. 14 (2001) 457.

Terms in the title (1)： アライナ