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J-GLOBAL ID:200903001352449557
位置検出装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤元 亮輔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003026541
Publication number (International publication number):2004239648
Application date: Feb. 03, 2003
Publication date: Aug. 26, 2004
Summary:
【課題】圧力の異なる領域を隔離する部材に変形が起きても、かかる部材を光路中に有する光学系の光学性能を劣化させることなく、高精度に計測可能な位置計測装置を提供する。【解決手段】被検出体の位置を光を用いて検出する位置検出装置であって、前記被検出体を光学的にフーリエ変換した面及び前記フーリエ変換した面と共役な面のうち光線有効径が最も大きい面以外の面の近傍に、圧力の異なる2つの空間を隔離する光学素子を配置したことを特徴とする位置検出装置を提供する。【選択図】 図1
Claim 1:
被検出体の位置を光を用いて検出する位置検出装置であって、
前記被検出体を光学的にフーリエ変換した面及び前記フーリエ変換した面と共役な面のうち光線有効径が最も大きい面以外の面の近傍に、圧力の異なる2つの空間を隔離する光学素子を配置したことを特徴とする位置検出装置。
IPC (3):
G01B11/00
, G03F7/20
, H01L21/027
FI (3):
G01B11/00 C
, G03F7/20 521
, H01L21/30 525R
F-Term (18):
2F065AA01
, 2F065AA49
, 2F065BB02
, 2F065BB27
, 2F065CC19
, 2F065FF04
, 2F065GG02
, 2F065GG05
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL28
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 5F046BA04
, 5F046FA03
, 5F046FA17
, 5F046FB17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-093449
Applicant:キヤノン株式会社
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荷電粒子線装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-068672
Applicant:株式会社トプコン, 株式会社東芝
-
面位置検出装置及び露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-204484
Applicant:キヤノン株式会社
-
検出装置及び該検出装置を用いた投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-356597
Applicant:キヤノン株式会社
-
位置検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-052736
Applicant:株式会社ニコン
-
走査型露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-122128
Applicant:株式会社ニコン
-
投影露光装置及びデバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-090302
Applicant:キヤノン株式会社
-
構造体の制御方式
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-140060
Applicant:株式会社ミツトヨ
-
レ-ザ-干渉測長装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-176355
Applicant:京セラ株式会社
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