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J-GLOBAL ID：200903001352449557

位置検出装置

Inventor：
佐藤 浩司

About 佐藤 浩司

, 
三島 和彦

About 三島 和彦


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 藤元 亮輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003026541
Publication number (International publication number)：2004239648
Application date： Feb. 03, 2003
Publication date： Aug. 26, 2004
Summary：
【課題】圧力の異なる領域を隔離する部材に変形が起きても、かかる部材を光路中に有する光学系の光学性能を劣化させることなく、高精度に計測可能な位置計測装置を提供する。【解決手段】被検出体の位置を光を用いて検出する位置検出装置であって、前記被検出体を光学的にフーリエ変換した面及び前記フーリエ変換した面と共役な面のうち光線有効径が最も大きい面以外の面の近傍に、圧力の異なる2つの空間を隔離する光学素子を配置したことを特徴とする位置検出装置を提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
被検出体の位置を光を用いて検出する位置検出装置であって、 前記被検出体を光学的にフーリエ変換した面及び前記フーリエ変換した面と共役な面のうち光線有効径が最も大きい面以外の面の近傍に、圧力の異なる2つの空間を隔離する光学素子を配置したことを特徴とする位置検出装置。
IPC (3)：
G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027
FI (3)：
G01B11/00 C ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 525R
F-Term (18)：
2F065AA01 ,  2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC19 ,  2F065FF04 ,  2F065GG02 ,  2F065GG05 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL28 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  5F046BA04 ,  5F046FA03 ,  5F046FA17 ,  5F046FB17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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