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J-GLOBAL ID：200903001587162492

硬化性作用基で表面修飾されたカーボンナノチューブを用いたパターン薄膜形成方法および高分子複合体の製造方法

Inventor：
朴 鐘辰

About 朴 鐘辰

, 
愼 重漢

About 愼 重漢

, 
李 相潤

About 李 相潤


Applicant, Patent owner：
三星電子株式会社

About 三星電子株式会社


Agent (1)： 磯野 道造
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004050632
Publication number (International publication number)：2004255564
Application date： Feb. 26, 2004
Publication date： Sep. 16, 2004
Summary：
【課題】 オキシラン基又はアンハイドライド基をカーボンナノチューブの表面に化学的方法で導入し、このように表面修飾されたカーボンナノチューブの光硬化によってパターン薄膜を形成し、或いは熱硬化によってカーボンナノチューブの高分子複合体を製造する方法を提供する。【解決手段】 カーボンナノチューブの表面に陽イオン重合に参加することが可能なオキシラン基又はアンハイドライド基を導入し、前記カーボンナノチューブを光酸発生剤又は光塩基発生剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、フォトマスクを介してUVに露光させ、露光部でカーボンナノチューブの陽イオン重合を誘発した後、非露光部を現像液で除去することにより、カーボンナノチューブのネガティブパターンを形成する。また、カーボンナノチューブを熱硬化剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、熱硬化させてカーボンナノチューブ高分子複合体を製造する。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
次の工程を含むカーボンナノチューブのネガティブパターン形成方法。 (a)下記化学式1で表わされるオキシラン基で表面修飾されたカーボンナノチューブ及び/又は下記化学式2〜7のいずれか一つで表わされるアンハイドライド基で表面修飾されたカーボンナノチューブを、光酸発生剤及び/又は光塩基発生剤と共に有機溶媒に分散させてコーティング液を製造する工程、
IPC (5)：
B82B1/00 ,  B05D1/32 ,  B05D3/06 ,  B32B9/00 ,  B82B3/00
FI (5)：
B82B1/00 ,  B05D1/32 A ,  B05D3/06 102Z ,  B32B9/00 A ,  B82B3/00
F-Term (50)：
4D075AD01 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB46Z ,  4D075EA21 ,  4D075EA45 ,  4D075EB13 ,  4D075EB19 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4D075EB33 ,  4D075EB35 ,  4D075EB37 ,  4D075EB39 ,  4D075EB43 ,  4D075EB56 ,  4D075EC07 ,  4D075EC30 ,  4D075EC38 ,  4D075EC45 ,  4D075EC54 ,  4F100AD11A ,  4F100AK12A ,  4F100AK21A ,  4F100AK23A ,  4F100AK25A ,  4F100AK33A ,  4F100AK36A ,  4F100AK41A ,  4F100AK43A ,  4F100AK45A ,  4F100AK46A ,  4F100AK50A ,  4F100AK52A ,  4F100AK53A ,  4F100AK54A ,  4F100AK56A ,  4F100AN02A ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100CA02A ,  4F100EH46 ,  4F100EJ08 ,  4F100EJ42 ,  4F100EJ64A ,  4F100GB43 ,  4F100GB90 ,  4F100JK12 ,  4F100JM01A ,  4F100JM02 ,  4F100YY00A
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (14)
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