パターン形成材料及びパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：工業技術院産業技術融合領域研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996037222
Publication number (International publication number)：1997211862
Application date： Jan. 31, 1996
Publication date： Aug. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】電子線を用いたリソグラフィー法により、高解像度で、かつナノメーター・オーダーのアスペクト比の高い微細加工が可能な新規な電子線感応性パターン形成材料、及びこの材料を用いて、原画に忠実なナノメーター・オーダーの耐ドライエッチング性に優れる微細レジストパターンを効率よく形成する方法を提供する。【解決手段】基板上にフラーレン薄膜層を設けて成る電子線感応性パターン形成材料、及び該フラーレン薄膜層に、所定のパターン形状に従い、あるいは所定のマスクパターンを通して電子線を照射したのち、有機溶剤を用いて非照射部分を溶解除去することにより、レジストパターンを形成する方法である。

Claim (excerpt)：

基板上にフラーレン薄膜層を設けたことを特徴とする電子線感応性パターン形成材料。

IPC (2)：

G03F 7/038 505 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/038 505 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

フラーレン含有レジスト材料を用いたデバイス作製プロセス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-051493 Applicant：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
フラーレン誘導体および感光材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-202514 Applicant：日本石油株式会社
感光材料組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-343296 Applicant：日本石油株式会社

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