Pat
J-GLOBAL ID：200903001736000360
露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007293198
Publication number (International publication number)：2008147635
Application date： Nov. 12, 2007
Publication date： Jun. 26, 2008
Summary：
【課題】露光装置に液浸法を適用した場合において、基板を効率良く良好に露光できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、露光ビームELを射出する第1光学部材8と、第1光学部材の光射出側で移動可能な第1移動体1と、第1移動体1に設けられ、位置計測用の計測ビームが照射される斜面1Szを有する計測部材1Rzと、第1移動体1に設けられ、計測部材1Rzよりも外側に張り出す端面8Eを有し、計測ビームを透過可能な透過領域を有する透過部材81とを備える。露光装置に液浸法を適用した場合において、基板を効率良く良好に露光できる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
基板に露光ビームを照射して前記基板を露光する露光装置であって、
前記露光ビームを射出する第1光学部材と、
前記第1光学部材の光射出側で移動可能な第1移動体と、
前記第1移動体に設けられ、位置計測用の計測ビームが照射される斜面を有する計測部材と、
前記第1移動体に設けられ、前記第1移動体から前記計測部材よりも外側に張り出す端面を有し、前記計測ビームを透過可能な透過領域を有する透過部材と、を備えた露光装置。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L21/30 515G
, G03F7/20 521
, H01L21/30 515D
5F046AA28
, 5F046CC01
, 5F046CC05
, 5F046CC16
Cited by applicant (15)
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リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2003-417259
Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
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リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2003-417261
Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
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2個の物品ホルダを有する位置決め装置
Gazette classification：公表公報
Application number：特願平10-529284
Applicant：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ, アーエスエムリソグラフィベスローテンフェンノートシャップ
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Cited by examiner (8)
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