露光装置及びデバイス製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：志賀正武 , 高橋詔男 , 青山正和 , 西和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003393858
Publication number (International publication number)：2004207696
Application date： Nov. 25, 2003
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：

【課題】投影光学系と基板との間に液体を満たして露光処理する際、液体中の気泡に起因するパターン像の劣化を抑えることができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、投影光学系と基板Pとの間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板P上に投影することによって基板Pを露光するものであって、投影光学系と基板Pとの間の液体中の気泡を検出する気泡検出器20を備えている。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、前記投影光学系と前記液体とを介してパターンの像を基板上に投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、前記投影光学系と前記基板との間の液体中の気泡を検出する気泡検出器を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L21/027 , G01N21/85 , G03F7/20

FI (4)：

H01L21/30 515D , G01N21/85 B , G03F7/20 521 , H01L21/30 516Z

F-Term (23)：

2G051AA48 , 2G051AB02 , 2G051AB06 , 2G051AB20 , 2G051BA20 , 2G051BB05 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CB05 , 2G051EA14 , 2G059AA05 , 2G059BB04 , 2G059CC20 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059GG10 , 2G059KK01 , 2G059MM10 , 5F046AA17 , 5F046BA03 , 5F046CB01 , 5F046CB25 , 5F046DB14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

国際公開第99/49504号パンフレット
液浸式投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-339510 Applicant：キヤノン株式会社
半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-086763 Applicant：日本電気株式会社

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Cited by examiner (9)

液浸式投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-339510 Applicant：キヤノン株式会社
半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-086763 Applicant：日本電気株式会社
パターン形成方法及びその露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-008136 Applicant：株式会社日立製作所

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