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J-GLOBAL ID：200903002019623384

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
和田 健二

About 和田 健二


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (4)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005015965
Publication number (International publication number)：2006201711
Application date： Jan. 24, 2005
Publication date： Aug. 03, 2006
Summary：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、感度や解像度に優れ、パターンプロファイルに優れ、露光ラチチュードが大きく、疎密依存性が小さく、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、それを用いたパターン形成方法及び当該感光性組成物に有用な化合物を提供する。【解決手段】酸によって切断される結合を有する有機酸を活性光線又は放射線の照射により発生する化合物、及び当該化合物を含有する感光性組成物、及び当該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
酸によって切断される結合を有する有機酸を活性光線又は放射線の照射により発生する化合物(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (4)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (12)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (4)
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