Pat
J-GLOBAL ID:200903002341454709

ポリマ材料及びポリマ膜

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 絹谷 信雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001115653
Publication number (International publication number):2002309094
Application date: Apr. 13, 2001
Publication date: Oct. 23, 2002
Summary:
【要約】【課題】 信頼性の高いポリマ材料及びポリマ膜を提供する。【解決手段】 分岐型ポリシラン化合物にシリコーン化合物と光酸発生剤とを所定量添加することにより、信頼性の高いポリマ材料及びポリマ膜が得られる。
Claim (excerpt):
分岐型ポリシラン化合物にシリコーン化合物と光酸発生剤とを所定量添加したことを特徴とするポリマ材料。
IPC (11):
C08L 83/16 ,  B29C 41/08 ,  C08G 77/60 ,  C08J 5/18 CFH ,  C08K 5/3492 ,  C08L 83/04 ,  C09D 5/00 ,  C09D183/04 ,  C09D183/16 ,  B29K 83:00 ,  B29L 7:00
FI (11):
C08L 83/16 ,  B29C 41/08 ,  C08G 77/60 ,  C08J 5/18 CFH ,  C08K 5/3492 ,  C08L 83/04 ,  C09D 5/00 Z ,  C09D183/04 ,  C09D183/16 ,  B29K 83:00 ,  B29L 7:00
F-Term (48):
4F071AA65 ,  4F071AA67 ,  4F071AC12 ,  4F071AE22 ,  4F071AF31 ,  4F071AH19 ,  4F071BC01 ,  4F071BC02 ,  4F071BC17 ,  4F205AA33 ,  4F205AB03 ,  4F205GA01 ,  4F205GA06 ,  4F205GB01 ,  4F205GC01 ,  4F205GC06 ,  4F205GE22 ,  4F205GE24 ,  4F205GF02 ,  4F205GN13 ,  4J002CP01 ,  4J002CP03 ,  4J002CP04 ,  4J002CP05 ,  4J002CP08 ,  4J002EU18 ,  4J002FD20 ,  4J002GP00 ,  4J035JA01 ,  4J035JB03 ,  4J035JB05 ,  4J035LA05 ,  4J035LB20 ,  4J038AA011 ,  4J038AA012 ,  4J038DL011 ,  4J038DL012 ,  4J038DL031 ,  4J038DL032 ,  4J038DL071 ,  4J038DL072 ,  4J038GA12 ,  4J038HA431 ,  4J038HA432 ,  4J038JB36 ,  4J038NA17 ,  4J038PA17 ,  4J038PA19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
Show all

Return to Previous Page