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J-GLOBAL ID：200903003244604409

鉛(II)キレート錯体及びその合成方法並びに該錯体を含む溶液原料、該錯体又は該溶液原料を用いて作製された高誘電体薄膜

Inventor： 岡村 信吾 ,  平社 英之 ,  小木 勝実
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 須田 正義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002337602
Publication number (International publication number)：2003226664
Application date： Nov. 21, 2002
Publication date： Aug. 12, 2003
Summary：

【要約】【課題】 気化温度を高めるとともに、熱安定性を有する鉛(II)キレート錯体を得る。高い成膜速度が得られる鉛(II)キレート錯体及びその合成方法並びに該錯体を含む溶液原料を提供する。均質で高機能な高誘電体薄膜を提供する。【解決手段】 次の式(1)に示される鉛(II)キレート錯体である。【化6】但し、dppdは次の式(2)で表される1,3-ジフェニル-1,3-プロパンジオン残基である。【化7】

Claim (excerpt)：

次の式(1)に示される鉛(II)キレート錯体。【化1】但し、dppdは次の式(2)で表される1,3-ジフェニル-1,3-プロパンジオン残基である。【化2】

IPC (4)：

C07C 49/92 ,  C07C 45/77 ,  C23C 16/18 ,  C07F 7/24

FI (4)：

C07C 49/92 ,  C07C 45/77 ,  C23C 16/18 ,  C07F 7/24

F-Term (30)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006AB81 ,  4H006AC90 ,  4H006AD15 ,  4H006BB11 ,  4H006BB25 ,  4H006BC10 ,  4H006BC19 ,  4H006BE90 ,  4H049VN04 ,  4H049VQ24 ,  4H049VR44 ,  4H049VS00 ,  4H049VS31 ,  4H049VU24 ,  4H049VV02 ,  4H049VV16 ,  4H049VW02 ,  4H049VW06 ,  4K030AA11 ,  4K030BA00 ,  4K030BA01 ,  4K030BA18 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030JA10 ,  4K030LA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 金属複合酸化物膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-253240   Applicant：日本酸素株式会社

Cited by examiner (6)

• 金属化合物溶液及びこれを用いた薄膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-039204   Applicant：旭電化工業株式会社
• 有機鉛化合物及び有機金属化学蒸着用原料溶液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-000786   Applicant：三菱マテリアル株式会社
• 金属複合酸化物膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-253240   Applicant：日本酸素株式会社
• 高純度β-ジケトネート鉛錯体およびその製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-067440   Applicant：日本酸素株式会社
• ジルコニウムアルコキシトリス(β-ジケトネート)とその製造方法およびPZT膜形成用液体組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-370762   Applicant：株式会社高純度化学研究所
• 薄膜形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-066552   Applicant：東京エレクトロン株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• Bulletin de l’Academie Polonaise des Sciences. Serie des Sciences Mathematiques, Astronomiques et P, 1963, Vol.16, No.1, p.73-79
• Analytica Chimica Acta, 1963, Vol.28, p.227-235
• Bulletin de l’Academie Polonaise des Sciences. Serie des Sciences Mathematiques, Astronomiques et P, 1963, Vol.16, No.1, p.73-79
• Analytica Chimica Acta, 1963, Vol.28, p.227-235