分布型光ファイバセンサ

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (4)：小谷悦司 , 伊藤孝夫 , 樋口次郎 , 櫻井智
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005378964
Publication number (International publication number)：2007178346
Application date： Dec. 28, 2005
Publication date： Jul. 12, 2007
Summary：

【課題】本発明は、光ファイバの長尺方向について歪み及び/又は温度を高精度かつ高空間分解能でより高速に測定し得る分布型光ファイバセンサを提供する。【解決手段】本発明に係る、連続光及び内側に向かうほど光強度が大きくなるように光強度が階段状になった光パルスをそれぞれポンプ光及びプローブ光として検出用光ファイバ18に入射させ、これら間で生じるブリルアン散乱現象に係る光に基づいて検出用光ファイバ18の歪み及び/又は温度を測定する分布型光ファイバセンサ1は、連続光を第1周波数間隔で掃引しながら検出用光ファイバ18に入射させ、この際に検出用光ファイバ18から射出されるブリルアン散乱現象に係る光の光強度が所定条件を満たした場合に、この所定条件を満たした周波数を含む所定周波数範囲において連続光を第1周波数間隔より小さい第2周波数間隔で掃引しながら検出用光ファイバ18に入射させる。【選択図】図6

Claim (excerpt)：

内側に向かうほど光強度が大きくなるように光強度が階段状になった光パルスを生成する階段状光パルス光源と、連続光を生成する連続光光源と、前記光パルスがプローブ光として入射されると共に前記連続光がポンプ光として入射され、前記プローブ光と前記ポンプ光との間でブリルアン散乱現象が生じる検出用光ファイバと、前記検出用光ファイバから射出されるブリルアン散乱現象に係る光に基づいてブリルアン・ロス・スペクトル又はブリルアン・ゲイン・スペクトルを求め、求めた前記ブリルアン・ロス・スペクトル又はブリルアン・ゲイン・スペクトルに基づいて前記検出用光ファイバに生じた歪み及び/又は温度を測定するブリルアン時間領域検出計とを備えた、ブリルアン散乱現象を利用して歪み及び/又は温度を測定する分布型光ファイバセンサにおいて、前記連続光を第1周波数間隔で掃引しながら前記検出用光ファイバに入射させる第1制御部と、前記第1制御部で前記連続光を前記第1周波数間隔で掃引した際に前記検出用光ファイバから射出されるブリルアン散乱現象に係る光の光強度が所定条件を満たした場合に、前記所定条件を満たした周波数を含む所定周波数範囲において前記連続光を前記第1周波数間隔より小さい第2周波数間隔で掃引しながら前記検出用光ファイバに入射させる第2制御部とをさらに備えることを特徴とする分布型光ファイバセンサ。

IPC (3)：

G01B 11/16 , G01D 5/353 , G01K 11/12

FI (3)：

G01B11/16 Z , G01D5/26 D , G01K11/12 F

F-Term (29)：

2F056VF02 , 2F056VF03 , 2F056VF11 , 2F056VF16 , 2F056VF17 , 2F065AA65 , 2F065CC14 , 2F065CC40 , 2F065DD06 , 2F065FF31 , 2F065FF41 , 2F065GG04 , 2F065GG08 , 2F065LL02 , 2F065LL21 , 2F065LL33 , 2F065LL55 , 2F065LL67 , 2F065NN08 , 2F065QQ13 , 2F065QQ14 , 2F065QQ23 , 2F065QQ33 , 2F103BA37 , 2F103CA06 , 2F103CA07 , 2F103EB02 , 2F103EB17 , 2F103EC09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-150618 Applicant：三菱電機株式会社
歪計測装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-287871 Applicant：三菱重工業株式会社
高精度三次元面ディジタル化システム及び方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-511034 Applicant：ミアラインコーポレイテッド

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Cited by examiner (10)

測定装置
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高精度三次元面ディジタル化システム及び方法
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