透明材料の微細加工方法および微細構造体

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004090266
Publication number (International publication number)：2004306138
Application date： Mar. 25, 2004
Publication date： Nov. 04, 2004
Summary：

【課題】透明材料の表面にエッチングされたパターンを形成すると同時に、有機薄膜によるパターンを形成する微細加工方法、及びパターン化された多重の有機薄膜を形成する微細加工方法および微細構造体の提供。【解決手段】透明基板上にレーザー光を照射して、透明基板の表面にパターン化された有機薄膜とエッチング表面を形成する微細加工方法において、透明基板表面に有機薄膜層を形成した後、レーザー波長に強い吸収を持つ流動性物質を前記透明基板の表面に接触させた状態で、前記透明基板の有機薄膜層とは反対側から0.01J/cm2/pulseから100J/cm2/pulseまでの強度のレーザーを照射することにより、パターン化された有機薄膜とエッチング表面を形成した透明基板および微細構造体を得る。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

透明基板表面上にレーザー光を照射することにより同時に形成されているパターン化された有機薄膜とエッチング表面からなることを特徴とする構造体。

IPC (1)：

B23K26/18

FI (1)：

B23K26/18

F-Term (8)：

4E068CA02 , 4E068CA04 , 4E068CF01 , 4E068CF03 , 4E068DB07 , 4E068DB12 , 4E068DB13 , 4E068DB15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

有機分子膜パターンの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-202201 Applicant：セイコーエプソン株式会社
有機分子膜、有機分子膜パターン及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-202200 Applicant：セイコーエプソン株式会社
微細構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-202199 Applicant：セイコーエプソン株式会社

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Cited by examiner (2)

有機分子膜パターンの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-202201 Applicant：セイコーエプソン株式会社
特許第3012926号

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