感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001095877
Publication number (International publication number)：2002062657
Application date： Mar. 29, 2001
Publication date： Feb. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記式(1)で表されるラクトン環構造を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(1)において、aは1〜3の整数であり、bは0〜9の整数であり、R1は1価の有機基を示す。〕

Claim (excerpt)：

(A)下記式(1)で表されるラクトン環構造を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(1)において、aは1〜3の整数であり、bは0〜9の整数であり、R1は1価の有機基を示す。〕

IPC (7)：

G03F 7/039 601 , C08F220/28 , C08F232/00 , C08K 5/00 , C08L 33/14 , C08L 45/00 , H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 601 , C08F220/28 , C08F232/00 , C08K 5/00 , C08L 33/14 , C08L 45/00 , H01L 21/30 502 R

F-Term (67)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J002BG071 , 4J002BK001 , 4J002EB116 , 4J002EB126 , 4J002EQ016 , 4J002EU046 , 4J002EU186 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV256 , 4J002EV296 , 4J002EW176 , 4J002GP03 , 4J100AL03R , 4J100AL04R , 4J100AL05R , 4J100AL08P , 4J100AL08R , 4J100AR09Q , 4J100AR09R , 4J100AR11Q , 4J100AR11R , 4J100AR22R , 4J100AU21R , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA06R , 4J100BA11P , 4J100BA11Q , 4J100BA15Q , 4J100BA15R , 4J100BA16R , 4J100BA20R , 4J100BA40R , 4J100BB01R , 4J100BB07R , 4J100BB17R , 4J100BB18R , 4J100BC02R , 4J100BC03R , 4J100BC04R , 4J100BC08R , 4J100BC09R , 4J100BC12R , 4J100BC23R , 4J100BC43R , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100BC53R , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA39

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-171947 Applicant：東京応化工業株式会社
化学増幅型ホトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-011581 Applicant：東京応化工業株式会社
透明性化合物、透明性樹脂およびこの透明性樹脂を用いた感光性樹脂組成物並びにこの感光性樹脂組成物を用いた半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-113503 Applicant：三菱電機株式会社

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