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J-GLOBAL ID:200903022433707817
ポジ型感光性組成物
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
萩野 平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998367619
Publication number (International publication number):2000187329
Application date: Dec. 24, 1998
Publication date: Jul. 04, 2000
Summary:
【要約】【課題】 250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用時に、良好な感度及び解像度で、密着性に優れた現像欠陥の少ないレジストパターンを与え、更に充分な耐ドライエッチング性を示すポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】(A)特定の環構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる基を有する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤、並びに(C)フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を含有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる基を有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤、並びに(C)フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】上記一般式(I)中;R1〜R6は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を表す。R7は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。環構造と酸素原子はR1〜R6のいずれかの位置で単結合で結合する。また、R1〜R6のうちの2つ以上が結合して環を形成してもよい。mは、0〜2の整数である。nは、0〜2の整数である。
IPC (3):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 504
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 504
, H01L 21/30 502 R
F-Term (19):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AA14
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB41
, 2H025CB52
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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化学増幅型ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-011581
Applicant:東京応化工業株式会社
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レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-312722
Applicant:富士通株式会社
-
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-112604
Applicant:富士通株式会社
-
化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-111309
Applicant:信越化学工業株式会社
-
化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-188461
Applicant:信越化学工業株式会社
-
化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-246873
Applicant:信越化学工業株式会社
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-261054
Applicant:日本ゼオン株式会社
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-120919
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-300372
Applicant:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
-
ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-041717
Applicant:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
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