化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999364726
Publication number (International publication number)：2001183836
Application date： Dec. 22, 1999
Publication date： Jul. 06, 2001
Summary：

【要約】【課題】感度、解像度、基板への接着性などの各種レジスト性能が良好であるとともに、特にアルカリ現像液に対する濡れ性に優れた化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(I)に相当する(メタ)アクリル酸ジヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位、例えば、下式(II)で示される(メタ)アクリル酸2-アルキル-2-アダマンチルの重合単位、を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる重合体を主体とする樹脂、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。式中、R1 及びR2 はそれぞれ水素又はメチルを表し、R3 はアルキルを表す。

Claim (excerpt)：

(メタ)アクリル酸ジヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる重合体を主体とする樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

F-Term (14)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 2H025CB41

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-150215 Applicant：富士写真フイルム株式会社
レジスト用樹脂、レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-224538 Applicant：株式会社東芝
放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-282664 Applicant：ダイセル化学工業株式会社

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