Pat
J-GLOBAL ID：200903006865575355
回路パターン転写装置及び方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
林 信之
, 安彦 元
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005088861
Publication number (International publication number)：2006269936
Application date： Mar. 25, 2005
Publication date： Oct. 05, 2006
Summary：
【課題】マスクパターンを不要とし、大量生産に対応してパターンを忠実に転写できる回路パターン転写装置及び方法を提供する。【解決手段】転写元の基板13における回路パターン15が予め形成されたパターニング面に転写先の基板21表面に形成されたレジスト膜を互いに近接させつつ各基板13,21を配置し、転写先の基板21を透過可能であるとともに上記レジスト膜に感光しない波長の光を転写先の基板裏面から照射し、その照射されて転写先の基板21を透過した光に基づき、転写元の基板21のパターニング面に形成された回路パターンに応じた局所領域に近接場光を発生させ、その発生させた近接場光により当該パターニング面に近接されたレジスト膜を感光させる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
転写元の基板に予め形成された回路パターンを転写先の基板表面に塗布されたレジスト膜上に転写する回路パターン転写装置において、
上記転写元の基板における上記回路パターンが予め形成されたパターニング面に、上記転写先の基板表面に形成されたレジスト膜を互いに近接させつつ、上記各基板を配置する基板配置手段と、
上記基板設置手段により配置された上記転写先の基板裏面から、当該転写先の基板を透過可能であるとともに上記レジスト膜に感光しない波長の光を照射する光照射手段とを備え、
上記光照射手段により照射されて上記転写先の基板を透過した光に基づき、上記転写元の基板の上記パターニング面に形成された上記回路パターンに応じた局所領域に近接場光を発生させ、その発生させた近接場光により当該パターニング面に近接された上記レジスト膜を感光させること
を特徴とする回路パターン転写装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L21/30 502D
, G03F7/20 521
5F046BA01
, 5F046BA10
, 5F046CA07
, 5F046CB17
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