超臨界乾燥装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：小川勝男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001305154
Publication number (International publication number)：2003109933
Application date： Oct. 01, 2001
Publication date： Apr. 11, 2003
Summary：

【要約】【課題】大口径基板の設置が容易で、かつ、自動搬送も可能な超臨界乾燥装置の提供。【解決手段】少なくとも高圧容器内に基板3が設置され、該高圧容器の中に超臨界流体となるべき液体もしくは超臨界流体を導入して上記基板を乾燥させる超臨界乾燥装置において、上記基板3が上記高圧容器の蓋部2に支持されている超臨界乾燥装置。

Claim (excerpt)：

少なくとも高圧容器内に基板が設置され、該高圧容器の中に超臨界流体となるべき液体もしくは超臨界流体を導入して上記基板を乾燥させる超臨界乾燥装置において、上記基板が上記高圧容器の蓋部に支持されていることを特徴とする超臨界乾燥装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 651 , F26B 5/00 , F26B 9/06

FI (3)：

H01L 21/304 651 G , F26B 5/00 , F26B 9/06 A

F-Term (8)：

3L113AA01 , 3L113AB09 , 3L113AB10 , 3L113AC21 , 3L113AC67 , 3L113BA34 , 3L113DA04 , 3L113DA13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

超臨界乾燥装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-248672 Applicant：日本電信電話株式会社
処理装置及び処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-108528 Applicant：東京エレクトロン株式会社
ウエハ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-017715 Applicant：株式会社日立製作所

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