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J-GLOBAL ID:200903008374171565
金属酸化物、その薄膜及びこれを製造する方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999143206
Publication number (International publication number):2000327310
Application date: May. 24, 1999
Publication date: Nov. 28, 2000
Summary:
【要約】【課題】 ゾル-ゲル法により金属酸化物の薄膜或いは成型体を形成する場合に、高温での熱処理を必要とせず、耐熱性の低い基板上にも形成することが可能な金属酸化物薄膜及びその形成方法を提供することであり、これらの方法に基づいて各種の機能性材料或いは機能性膜を得ること及びこれら機能性材料或いは機能性膜の製造方法を提供することにある。【解決手段】 金属アルコキシドまたは金属塩を主原料として得られる金属酸化物ゾルから金属酸化物ゲルを形成した後、該金属酸化物ゲルにプラズマ処理を行って製造したことを特徴とする金属酸化物、又これを得る為の製造方法。
Claim (excerpt):
金属アルコキシドまたは金属塩を主原料として得られる金属酸化物ゾルから金属酸化物ゲルを形成した後、該金属酸化物ゲルにプラズマ処理を行って製造したことを特徴とする金属酸化物。
IPC (6):
C01B 13/32
, C01B 33/12
, C08J 7/00 302
, G02B 1/11
, G02B 1/10
, H01B 5/14
FI (6):
C01B 13/32
, C01B 33/12 C
, C08J 7/00 302
, H01B 5/14
, G02B 1/10 A
, G02B 1/10 Z
F-Term (59):
2K009AA02
, 2K009AA15
, 2K009BB14
, 2K009BB28
, 2K009CC03
, 2K009CC21
, 2K009DD02
, 2K009DD04
, 2K009EE03
, 4F073AA04
, 4F073AA14
, 4F073BA03
, 4F073BA22
, 4F073BA23
, 4F073BA24
, 4F073BA26
, 4F073BA28
, 4F073BA32
, 4F073BA33
, 4F073BA52
, 4F073BB01
, 4F073CA01
, 4F073CA02
, 4F073CA04
, 4F073CA61
, 4F073CA62
, 4F073CA63
, 4F073CA64
, 4F073CA65
, 4F073CA72
, 4F073FA01
, 4F073FA03
, 4F073FA07
, 4F073FA08
, 4F073FA13
, 4G042DA01
, 4G042DA02
, 4G042DB01
, 4G042DB16
, 4G042DB22
, 4G042DC03
, 4G042DD02
, 4G042DE07
, 4G042DE09
, 4G042DE14
, 4G072AA28
, 4G072BB09
, 4G072GG01
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH30
, 4G072KK17
, 4G072PP05
, 4G072PP17
, 4G072RR25
, 5G307FA02
, 5G307FB01
, 5G307FC03
, 5G307FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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多孔質ケイ素酸化物膜の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-313668
Applicant:旭化成工業株式会社
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超微粒金属酸化物粉の製造方法
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Application number:特願平7-255049
Applicant:三菱化学株式会社
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Application number:特願平4-019854
Applicant:株式会社東芝
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-315075
Applicant:出光興産株式会社
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高電導性の透明導電膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-027813
Applicant:昭和電工株式会社
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特開昭61-136995
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獣毛の改質法
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Application number:特願平4-299103
Applicant:イーシー化学株式会社, 新日本理化株式会社, 脇田登美司
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Application number:特願平3-262519
Applicant:石原産業株式会社
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Application number:特願平7-230349
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Applicant:株式会社関西新技術研究所
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