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J-GLOBAL ID:200903008684028452

質量分析方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人 明成国際特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001175747
Publication number (International publication number):2002110081
Application date: Jun. 11, 2001
Publication date: Apr. 12, 2002
Summary:
【要約】【課題】【解決手段】 混合物から親イオンが溶離するのと実質的に同時に生成されることが確認された娘イオンを照合することにより親イオンを同定する方法が開示されている。イオン源1から放出されたイオンは、イオンが実質的にフラグメント化され娘イオンを生成する第1のモードとイオンが実質的にフラグメント化しない第2のモードとの間を交互に繰り返し切り換わる衝突セル3に入射する。両方のモードで質量スペクトルが取得され、試行の最後に、2つの異なるモードで得られた質量スペクトルを比較することにより、親イオンと娘イオンが認識される。溶離時間の適合度により、娘イオンが特定の親イオンに適合され、それによって、親イオンの同定が可能になる。
Claim (excerpt):
質量分析方法であって、(a)イオンを生成するためのイオン源を提供する工程と、(b)前記イオンをフラグメント化手段に送る工程と、(c)前記フラグメント化手段を、前記イオンの少なくとも一部分がフラグメント化されて娘イオンを生じる第1のモードで動作させる工程と、(d)前記第1のモードで動作する前記フラグメント化手段から放出されるイオンの質量スペクトルを、高フラグメント化質量スペクトルとして記録する工程と、(e)前記フラグメント化手段を、フラグメント化されるイオンが実質的に少ない第2のモードで動作するよう切り換える工程と、(f)前記第2のモードで動作する前記フラグメント化手段から放出されるイオンの質量スペクトルを、低フラグメント化質量スペクトルとして記録する工程と、(g)工程(c)〜(f)を複数回繰り返す工程と、を含む、方法。
IPC (3):
H01J 49/26 ,  G01N 27/62 ,  H01J 49/40
FI (3):
H01J 49/26 ,  G01N 27/62 D ,  H01J 49/40
F-Term (5):
5C038HH02 ,  5C038HH05 ,  5C038HH16 ,  5C038HH26 ,  5C038HH28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (16)
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