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J-GLOBAL ID：200903008748159130

パラジウム触媒及びそれを用いたビアリール系化合物又はヘテロビアリール系化合物の製造方法

Inventor：
萩原 久大

About 萩原 久大


Applicant, Patent owner：
国立大学法人 新潟大学

About 国立大学法人 新潟大学


Agent (4)： 牛木 護 ,  吉田 正義 ,  松浦 康次 ,  清水 栄松
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007018785
Publication number (International publication number)：2008184418
Application date： Jan. 30, 2007
Publication date： Aug. 14, 2008
Summary：
【課題】活性が高く、温和な反応条件で、かつ、少量の使用であっても収率よく鈴木-宮浦カップリングを進行させることができる、新規のパラジウム触媒とこれを用いたビアリール系化合物又はヘテロビアリール系化合物の製造方法を提供する。【解決手段】パラジウム触媒及び塩基の存在下において、芳香族ハロゲン化物と芳香族ボロン酸とを反応させてビアリール系化合物を製造するに際し、パラジウム触媒として、[1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム]PF6に溶解した酢酸パラジウムをジエチルアミノプロピル残基で表面修飾した無定形アルミナの空孔内に固定化させてなるパラジウム触媒を用いた。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
パラジウム触媒及び塩基の存在下において、芳香族ハロゲン化物又はヘテロ芳香族ハロゲン化物と芳香族ボロン酸又はヘテロ芳香族ボロン酸とを反応させてビアリール系化合物又はヘテロビアリール系化合物を製造するに際し、前記パラジウム触媒として、イオン液体に溶解したパラジウム化合物を多孔質担体に固定化させてなるパラジウム触媒を用いることを特徴とするビアリール系化合物又はヘテロビアリール系化合物の製造方法。
IPC (7)：
C07B 37/04 ,  C07C 43/205 ,  C07C 49/784 ,  C07C 15/14 ,  C07C 205/11 ,  B01J 23/44 ,  B01J 37/02
FI (7)：
C07B37/04 B ,  C07C43/205 D ,  C07C49/784 ,  C07C15/14 ,  C07C205/11 ,  B01J23/44 Z ,  B01J37/02 101C
F-Term (26)：
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01B ,  4G169BA36A ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169CB25 ,  4G169CB59 ,  4G169CB66 ,  4G169EA04Y ,  4G169EB10 ,  4G169EC03Y ,  4G169FA02 ,  4G169FB14 ,  4G169FB18 ,  4H006AA02 ,  4H006AC24 ,  4H006BA25 ,  4H006BA32 ,  4H006BA55 ,  4H006BB14 ,  4H006BB31 ,  4H006BE12 ,  4H006GP03 ,  4H039CA41 ,  4H039CD20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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