レーザー照射装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997065531
Publication number (International publication number)：1998244392
Application date： Mar. 04, 1997
Publication date： Sep. 14, 1998
Summary：

【要約】【目的】レーザー光の照射によるアニールの均一性を向上させる。【構成】被照射面に対して線状もしくは方形状のビーム形状を有するレーザー光を照射する装置に関して、レーザー装置より放出された原ビームを2つのシリンドリカルレンズ4、5を通過させることにより、原ビームの光強度の分布の偏りを分散せしめる原理を有するホモジナイザーにおいて、前記シリンドリカルレンズ4、5は、いずれも、その方向が、ビームの移動方向と平行でないことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

被照射面に対して、線状もしくは方形状のビーム形状を有するレーザー光を照射する装置において、該装置は、少なくとも1つの多シリンドリカルレンズを有するホモジナイザーを有し、前記多シリンドリカルレンズは、いずれも、ビームの移動方向と平行でないことを特徴とするレーザー照射装置。

IPC (5)：

B23K 26/06 , B23K 26/00 , G03F 7/20 505 , H01L 21/268 , H01L 21/027

FI (5)：

B23K 26/06 E , B23K 26/00 E , G03F 7/20 505 , H01L 21/268 J , H01L 21/30 527

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

走査型露光装置及び該走査型露光装置を用いてデバイスを製造する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-140174 Applicant：キヤノン株式会社
レーザ照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-015230 Applicant：松下電器産業株式会社
レーザー照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-069394 Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所

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