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J-GLOBAL ID:200903010242454660

高密度コバルトマンガン共沈水酸化ニッケル及びその製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001340183
Publication number (International publication number):2002201028
Application date: Nov. 06, 2001
Publication date: Jul. 16, 2002
Summary:
【要約】【課題】 高密度コバルトマンガン共沈水酸化ニッケル及びその製造方法に関する。【解決手段】 反応槽内に、不活性ガス雰囲気中または還元剤存在下、コバルト塩およびマンガン塩を含むニッケル塩水溶液、錯化剤、並びにアルカリ金属水酸化物を連続供給し、連続結晶成長させ、連続に取り出すことにより高密度、特にタッピング密度が1.5g/cc以上である高密度コバルトマンガン共沈水酸化ニッケルを得ることができる。
Claim (excerpt):
タッピング密度が1.5g/cc以上である高密度コバルトマンガン共沈水酸化ニッケル。
IPC (2):
C01G 53/04 ,  H01M 4/58
FI (2):
C01G 53/04 ,  H01M 4/58
F-Term (12):
4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AC06 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05 ,  5H050AA02 ,  5H050AA07 ,  5H050BA17 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050HA02 ,  5H050HA08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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