ICPアンテナ及びこれを使用するプラズマ発生装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：志賀正武 , 渡邊隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004096931
Publication number (International publication number)：2005011799
Application date： Mar. 29, 2004
Publication date： Jan. 13, 2005
Summary：

【課題】均一性が向上された高密度プラズマを生成し、アンテナ内部にインダクタンスを減少させるなど安定したプラズマを生成することができるICPアンテナ及びこれを使用するプラズマ発生装置を提供する。【解決手段】プラズマ発生装置に使用されるICP(inductively-coupled plasma)アンテナ20は、環状をなす内側アンテナセグメント21と、前記内側アンテナセグメント21の外側のほぼ同心円上に配置され、前記内側アンテナセグメント21と直列に連結される少なくとも一つの外側アンテナセグメント25とを含み、前記内側アンテナセグメント21及び前記外側アンテナセグメント25のうち、少なくともいずれか一つは相異なる半径を有し、相互並列に連結された複数の環状コイル22,23,26,27を含む。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

プラズマ発生装置に使用されるICP(inductively-coupled plasma)アンテナにおいて、環状をなす内側アンテナセグメントと、前記内側アンテナセグメントの外側のほぼ同心円上に配置され、前記内側アンテナセグメントと直列に連結される少なくとも一つの外側アンテナセグメントとを含み、前記内側アンテナセグメント及び前記外側アンテナセグメントのうち、少なくともいずれか一つは相異なる半径を有し、相互並列に連結された複数の環状コイルを含むことを特徴とするICPアンテナ。

IPC (1)：

H05H1/46

FI (1)：

H05H1/46 L

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

ほぼ均一なプラズマ束を誘導するための誘導結合源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-152711 Applicant：ラムリサーチコーポレーション
誘導結合型プラズマ発生用アンテナ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-192572 Applicant：周星エンジニアリング株式会社, 韓国科学技術院
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-171901 Applicant：株式会社プラズマシステム

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Cited by examiner (7)

ほぼ均一なプラズマ束を誘導するための誘導結合源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-152711 Applicant：ラムリサーチコーポレーション
誘導結合型プラズマ発生用アンテナ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-192572 Applicant：周星エンジニアリング株式会社, 韓国科学技術院
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-171901 Applicant：株式会社プラズマシステム

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