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J-GLOBAL ID：200903010794272221

微細気泡生成装置及びその方法

Inventor： 隅倉 みさき ,  日▲高▼ 政隆 ,  渡辺 昭二 ,  芳賀 鉄郎 ,  圓佛 伊智朗 ,  原 直樹
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 井上 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005207961
Publication number (International publication number)：2007021392
Application date： Jul. 19, 2005
Publication date： Feb. 01, 2007
Summary：

【課題】 微細気泡の生成装置を提供する。【解決手段】 ポンプ1により気体が加圧溶解された流体が、多孔板ユニット4に流入し、多孔板通過時に減圧されて溶存していた気体が析出し、微細気泡を形成する。制御装置3は、インバータ2を介してポンプ1の回転数を変え、微細気泡含有水11の排出流量を制御する。同時に、制御装置3は、駆動装置7を介して狭隘流路の孔数を変え、加圧圧力を微細気泡生成に必要な圧力の下限値以上、かつ所定の上限値以下に維持する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

気液二相流の生成装置に接続されたポンプと、該ポンプの回転数を制御するインバータと、前記ポンプに接続され気液二相流の通過に使用される流路断面積を変化させる駆動装置を含む多孔板ユニットと、前記インバータ及び駆動装置を制御する制御装置とを備え、前記制御装置からの指令により、前記駆動装置を制御して気液二相流の通過に使用される流路断面積を変化させるとともに前記インバータを制御して前記ポンプの加圧圧力を許容範囲内に維持させて気液二相流の流量を変化させる微細気泡の生成装置。

IPC (2)：

B01F 5/06 ,  B01F 3/04

FI (2)：

B01F5/06 ,  B01F3/04 E

F-Term (3)：

4G035AB30 ,  4G035AC26 ,  4G035AE02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 加圧式オゾン処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-031689   Applicant：株式会社日立製作所
• マイクロバブル発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-322141   Applicant：株式会社丸八ポンプ製作所
• 加圧型下方注入式多段オゾン接触槽とその制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-254096   Applicant：株式会社明電舎

Cited by examiner (18)

• マイクロバブル発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-322141   Applicant：株式会社丸八ポンプ製作所
• 混合攪拌装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-042432   Applicant：株式会社フジキン, 花王株式会社
• 気液溶解混合装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-261347   Applicant：和泉電気株式会社
• 気液溶解混合装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-290655   Applicant：和泉電気株式会社
• 加圧式オゾン処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-031689   Applicant：株式会社日立製作所
• 高速オゾン反応システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-035007   Applicant：株式会社東芝
• 気液供給装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-243296   Applicant：有限会社森山組
• 気泡浴槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-163239   Applicant：松下電工株式会社
• キャビテ-ションの発生方法および発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-063259   Applicant：ハイテック株式会社
• 気液溶解混合方法と装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-261852   Applicant：和泉電気株式会社
• オゾン散気装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-194401   Applicant：富士電機ホールディングス株式会社
• 泡風呂装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-196445   Applicant：松下電器産業株式会社
• 気液分散装置及び気液接触装置並びに廃水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-213632   Applicant：株式会社日本触媒
• 気泡発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-227983   Applicant：株式会社五月工業
• 気泡水製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-167917   Applicant：佐々木輝司
• 微細泡沫製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-215040   Applicant：和泉電気株式会社
• 気泡生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-122424   Applicant：遠藤勲, 遠藤清徳, 高橋織物株式会社, 中塚勝
• 静止型混合装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-050001   Applicant：株式会社フジキン