研磨液組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：細田芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000345113
Publication number (International publication number)：2001288455
Application date： Nov. 13, 2000
Publication date： Oct. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】研磨速度を向上させると共に、スクラッチ、ピット等の表面欠陥が少なく、表面粗さ(Ra)、及びうねり(Wa)等の表面平滑性を向上させることが可能な研磨液組成物、該研磨液組成物を用いる研磨方法、表面粗さ(Ra)、及びうねり(Wa)等の表面平滑性が向上した磁気ディスク基板、並びにその製造方法を提供すること。【解決手段】〔1〕シリカ粒子と水とポリアミノカルボン酸のFe塩及び/又はAl塩を含有する研磨液組成物、〔2〕さらに無機酸及び/又は有機酸を含有する〔1〕記載の研磨液組成物、前記〔1〕又は〔2〕記載の研磨液組成物を用いる研磨方法、前記〔1〕又は〔2〕記載の研磨液組成物を用いた研磨工程を有する磁気ディスク基板の製造方法、並びに前記〔1〕又は〔2〕記載の研磨液組成物を用いて製造した磁気ディスク基板。

Claim (excerpt)：

シリカ粒子と水とポリアミノカルボン酸のFe塩及び/又はAl塩を含有する研磨液組成物。

IPC (4)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , B24B 37/00 , G11B 5/84

FI (4)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z , B24B 37/00 H , G11B 5/84 A

F-Term (11)：

3C058CA01 , 3C058CB02 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 3C058DA02 , 3C058DA17 , 5D112AA02 , 5D112AA24 , 5D112BA09 , 5D112GA02 , 5D112GA14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

研磨用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-174590 Applicant：株式会社フジミインコーポレーテッド
研磨剤スラリーおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-198110 Applicant：株式会社岡本工作機械製作所
研磨用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-008771 Applicant：株式会社フジミインコーポレーテッド

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Cited by examiner (11)

研磨用組成物
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