ナノインプリント方法及び装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：川守田光紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006138720
Publication number (International publication number)：2007076358
Application date： May. 18, 2006
Publication date： Mar. 29, 2007
Summary：

【課題】円筒状の基体の側面に形成された転写層にナノインプリントを利用して回路パターンを形成する。【解決手段】円筒又は円柱状の基体102の側面の一部又は全部に形成された転写層に、モールド104の表面に形成されたパターンを転写することを特徴とし、さらに該装置は、前記基体102に着接する第1のジグと、前記第1のジグを回転自在に支持する第2のジグと、前記第2のジグに連結され、前記第1のジグ及び前記第2のジグを介して前記基体を前記モールド104に押し付ける押し付け部と、前記モールド104を保持すると共に、前記モールド104を前記押し付け力に略垂直な方向に移動させる、可動保持部と、を備えることを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

およそ円錐又は円筒の側面の一部又は全部をなす形状に転写層が形成された被成形体を、モールドに押し付けながら前記モールド上を転動させることにより、前記モールドの表面に形成されたパターンを前記転写層に転写することを特徴とする、ナノインプリント方法。

IPC (5)：

B29C 59/02 , B82B 3/00 , H05K 3/00 , H05K 3/10 , B29C 59/04

FI (6)：

B29C59/02 Z , B82B3/00 , H05K3/00 J , H05K3/00 L , H05K3/10 E , B29C59/04 Z

F-Term (22)：

4F209AD07 , 4F209AD12 , 4F209AD15 , 4F209AG05 , 4F209AG08 , 4F209AG14 , 4F209AH04 , 4F209AH33 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PQ11 , 5E343AA01 , 5E343AA12 , 5E343BB02 , 5E343BB03 , 5E343DD21 , 5E343EE33 , 5E343FF26 , 5E343GG11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

ナノプリント装置、及び微細構造転写方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-078072 Applicant：株式会社日立製作所, 株式会社日立インダストリイズ

Cited by examiner (10)

ナノメ-トルのスケ-ルのパタ-ンの複製
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-327186 Applicant：コーニングインコーポレイテッド
微細形状が表面に形成されたロ-ルの製造方法及びフィルム部材の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-004147 Applicant：株式会社有沢製作所
パターン転写装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-190300 Applicant：オムロン株式会社

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