露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997299775
Publication number (International publication number)：1999135400
Application date： Oct. 31, 1997
Publication date： May. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】露光光の状態、又は結像特性を計測する機能を維持した上で、レチクル、又はウエハを位置決めするためのステージを小型化する。【解決手段】定盤13上にX方向、Y方向に移動自在に配置されたウエハステージWST上にウエハWが載置され、ウエハW上の露光領域12内にレチクルのパターン像が露光され、レチクル及びウエハWをY方向に走査することで露光が行われる。定盤13上にウエハステージWSTとは独立にX方向、Y方向に移動自在に計測用ステージ14が配置され、計測用ステージ14上に照射量モニタ18、照度むらセンサ19、及びスリットが形成された測定板20を含む空間像検出系が設置されている。ウエハステージWSTは露光に必要な最小限の機能を備えればよいため、ウエハステージWSTが小型化、軽量化できる。

Claim (excerpt)：

マスクに形成されたパターンを露光ビームを用いて基板上に転写する露光装置において、前記マスクと前記基板との何れか一方を保持して所定の領域を移動する第1のステージと、前記第1のステージとは独立した第2のステージと、該第2のステージに取り付けられて前記露光ビームの状態を計測する計測装置と、を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 516 B , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 C , H01L 21/30 518

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

ステップ・アンド・リピート装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-112936 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
露光方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-028525 Applicant：株式会社ニコン
露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-098160 Applicant：株式会社ニコン

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Cited by examiner (7)

ステップ・アンド・リピート装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-112936 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
露光方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-028525 Applicant：株式会社ニコン
露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-098160 Applicant：株式会社ニコン

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