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J-GLOBAL ID:200903015110547148
湿式空気浄化システムの制御方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006287830
Publication number (International publication number):2008104907
Application date: Oct. 23, 2006
Publication date: May. 08, 2008
Summary:
【課題】ランニングコストを低減させることができる湿式空気浄化システムの制御方法を提供することを目的としている。【解決手段】汚染成分が含まれたガスGを湿式処理装置2に送り込み、湿式処理装置2内においてガスGを処理水Wで湿式処理してガスG中の汚染成分を除去し、その後、湿式処理後のガスG’を湿式処理装置2の外に送り出す湿式空気浄化システム1の制御方法において、ガスG中の汚染成分の濃度を測定し、この測定結果に応じて、湿式処理装置に補給される処理水Wの補給量を調整する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
汚染成分が含まれたガスを湿式処理装置に送り込み、該湿式処理装置内において前記ガスを処理水で湿式処理してガス中の汚染成分を除去し、その後、湿式処理後のガスを湿式処理装置の外に送り出す湿式空気浄化システムの制御方法において、
前記ガス中の汚染成分の濃度を測定し、
この測定結果に応じて、湿式処理装置に補給される処理水の補給量を調整することを特徴とする湿式空気浄化システムの制御方法。
IPC (1):
FI (2):
B01D53/18 C
, B01D53/18 E
F-Term (16):
4D020AA08
, 4D020AA09
, 4D020AA10
, 4D020BA23
, 4D020BB03
, 4D020CB08
, 4D020CB27
, 4D020CB33
, 4D020CC04
, 4D020CC07
, 4D020CD01
, 4D020DA01
, 4D020DB01
, 4D020DB03
, 4D020DB05
, 4D020DB07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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クリーンルーム設備のガス除去装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-017113
Applicant:日立プラント建設株式会社
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クリ-ンル-ム汚染物質除去システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-095603
Applicant:清水建設株式会社
Cited by examiner (5)
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気体処理システム、及び、これを用いた空調設備
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-026426
Applicant:株式会社大氣社
-
ガス状汚染成分除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-117212
Applicant:株式会社大氣社
-
空気清浄化方法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-022393
Applicant:文化シヤッター株式会社
-
可溶性ガス成分の除去装置及びその運転方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-141133
Applicant:高砂熱学工業株式会社
-
不純物除去装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-045204
Applicant:高砂熱学工業株式会社
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