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J-GLOBAL ID：200903015430877316

ポジ型感放射線性組成物

Inventor： 漢那 慎一 ,  児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000137461
Publication number (International publication number)：2001318464
Application date： May. 10, 2000
Publication date： Nov. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ポジ型化学増幅レジストにあって、露光した後、後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られるプロセス許容性が大きいポジ型感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】 酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、 活性光線又は放射線の照射により分子量100以下のカルボン酸を発生する化合物、界面活性剤、及び溶剤を含有するポジ型感放射線性組成物。

Claim (excerpt)：

(a)酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、(b)活性光線又は放射線の照射により分子量100以下のカルボン酸を発生する化合物、(c)界面活性剤、及び(d)溶剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

IPC (9)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (9)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (92)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC101 ,  4J002BC111 ,  4J002BC121 ,  4J002BD122 ,  4J002BG032 ,  4J002BG071 ,  4J002CH052 ,  4J002CP032 ,  4J002EB117 ,  4J002EB127 ,  4J002EB147 ,  4J002EB157 ,  4J002ED057 ,  4J002EG016 ,  4J002EH048 ,  4J002EN029 ,  4J002EN069 ,  4J002EN099 ,  4J002EQ019 ,  4J002ER009 ,  4J002ER029 ,  4J002ES007 ,  4J002EU049 ,  4J002EU079 ,  4J002EU119 ,  4J002EU129 ,  4J002EU239 ,  4J002EV047 ,  4J002EV116 ,  4J002EV129 ,  4J002EV217 ,  4J002EV237 ,  4J002EV296 ,  4J002EV297 ,  4J002EV307 ,  4J002FD020 ,  4J002FD090 ,  4J002FD200 ,  4J002FD312 ,  4J002FD318 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05 ,  4J100AB02R ,  4J100AB04R ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AL03R ,  4J100AL75Q ,  4J100AM02R ,  4J100AM15R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA04R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA05R ,  4J100BA13Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BA20R ,  4J100BA29Q ,  4J100BA31Q ,  4J100BA33Q ,  4J100BA35Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BA52Q ,  4J100BA53Q ,  4J100BB01Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC43Q ,  4J100BC65Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-095681   Applicant：松下電子工業株式会社, クラリアントジャパン株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-025531   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 放射線感応性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-269579   Applicant：ヘキストジャパン株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-079458   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-028944   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-229160   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-025369   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 放射感応性混合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-080519   Applicant：ヘキストジャパン株式会社