放射線感応性組成物

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994269579
Publication number (International publication number)：1996129260
Application date： Nov. 02, 1994
Publication date： May. 21, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】a)酸に敏感な基により部分的に保護されたヒドロキシスチレンの単独重合体または共重合体、b)酸により開裂し得る基により保護されたポリ(N,O-アセタール)またはフェノールの様な溶解防止剤、c)露光により酸を発生することができる感光性化合物、d)放射により分解し、露光から熱処理までの間に線幅を調製することができる塩基、e)下記一般式の構造を有する、低分子量のフェノール性またはポリフェノール性化合物またはその混合物、(HO-R2 )m -Y-(R1 -OH)n......一般式(式中、Yはアルキルまたは置換されたアルキル基等、R1 およびR2 は個別にアリールまたは置換されたアリール基であるか、またはそれらの組合せであり、mおよびnは0〜3である。)およびf)成分(a)〜(e)を溶解させる溶剤を含む、化学的増感型のレジスト材料。【効果】電子部品、印刷版などの製造に好適な放射線感応性混合物を提供する。

Claim (excerpt)：

a)水に不溶でかつ、アルカリ水溶液に可溶であるかまたはアルカリ水溶液中で膨潤し得る結合剤、b)一般式(I): (-CHR3 -O-R4 -X-NR5 -)p (I)(式中、R3 はアルキル、アリールまたは置換されたアリール基であり、R4 は二価のアルキレン、シクロアルキレン、二価のアルケン、または二価のアルキン基であり、R5 はアルキル、アルケン、アルキンまたは、シクロアルキル基であり、Xは-OCO-、-CO-、または-NHCO-であり、そしてpは1以上の数である。)を有するポリ(N,O-アセタール)および/または水酸基が酸により開裂し得る基で保護されているフェノール性化合物からなる溶解防止剤、c)活性線放射に露出することにより酸を発生し得る感光性化合物、d)活性線放射に露出することにより、中性化合物に分解し得る塩基、e)一般式(II):【化1】(nは1〜5の整数、mは0〜4の整数、n+m≦5であり、pは1〜10の整数であり、Rは、炭素数1〜12のアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基または炭素数1〜5のヒドロキシアルキル基であって、それらの水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、mが2以上のときRは同一であっても異なっていてもよく;Aは、炭素数1〜100の置換されていてもよい、環状脂肪族、鎖状脂肪族、芳香族またはその組合せを含むp価の炭化水素原子団であって、それらの炭素原子が酵素原子で置換されていてもよい。ただし、p=1のときAは水素原子であってもよく、p=2のときAは、-S-、-SO-、-SO2-、-O-、-CO-または直接結合であってもよい。)を含むことを特徴とする、放射線感応性組成物。

IPC (7)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/00 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/033 , G03F 7/085 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

ポジ型放射感応性混合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-025753 Applicant：ヘキストジャパン株式会社
ポジ型放射感応性混合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-025751 Applicant：ヘキストジャパン株式会社
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-169385 Applicant：株式会社日立製作所

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