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J-GLOBAL ID:200903015663167742
ガス溶解水の調製方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
内山 充
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999257851
Publication number (International publication number):2001079376
Application date: Sep. 10, 1999
Publication date: Mar. 27, 2001
Summary:
【要約】【課題】半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板などの電子材料などのウェット洗浄に用いられる所望濃度のガス溶解水を、短時間で効率的に調製することができるガス溶解水の調製方法を提供する。【解決手段】所定温度、所定圧力における所望濃度のガス溶解水を得る方法であって、ガスを溶解させる水を、該所定温度より低い温度に温度調整し、又は、該所定圧力より高い圧力に圧力調整し、温度調整又は圧力調整した水に、該所望濃度に相当する量のガスを供給して溶解したのち、得られたガス溶解水を所定温度まで加温し、又は、所定圧力まで減圧することを特徴とするガス溶解水の調製方法。
Claim (excerpt):
所定温度、所定圧力における所望濃度のガス溶解水を得る方法であって、ガスを溶解させる水を、該所定温度より低い温度に温度調整し、又は、該所定圧力より高い圧力に圧力調整し、温度調整又は圧力調整した水に、該所望濃度に相当する量のガスを供給して溶解したのち、得られたガス溶解水を所定温度まで加温し、又は、所定圧力まで減圧することを特徴とするガス溶解水の調製方法。
IPC (2):
B01F 1/00
, H01L 21/304 647
FI (2):
B01F 1/00 A
, H01L 21/304 647 Z
F-Term (4):
4G035AA01
, 4G035AB54
, 4G035AE15
, 4G035AE19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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基板処理装置および基板処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-142334
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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洗浄液の製造方法およびそのための装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-166695
Applicant:株式会社フロンテック, 大見忠弘, オルガノ株式会社
-
水素含有超純水の供給装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-251387
Applicant:栗田工業株式会社
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特開平4-058527
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半導体ウェーハを流体中で処理する方法および装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平7-504711
Applicant:レガシーシステムズインコーポレイテッド
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気体の液体への急速混合溶解装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-032895
Applicant:株式会社コア・コーポレーション
-
高濃度オゾン水製造方法及び高濃度オゾン水製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-082520
Applicant:長廣仁蔵
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特開平1-130785
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気体溶解装置および気体溶解方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-223179
Applicant:大日本インキ化学工業株式会社
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オゾン溶解方法と装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-146023
Applicant:石川島播磨重工業株式会社
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