水素含有超純水の供給装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内山充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997251387
Publication number (International publication number)：1999077021
Application date： Sep. 01, 1997
Publication date： Mar. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】洗浄用の水素含有超純水を、余剰が生じて廃棄することなく、使用水量が変動する場合にも、安定した溶存水素ガス濃度の水素含有超純水をユースポイントに供給することができる水素含有超純水の供給装置を提供する。【解決手段】水素含有超純水を用いる洗浄工程において、(A)ユースポイントで使われなかった水素含有超純水及び補給される超純水を保持する密閉式の水槽、(B)送水ポンプ、(C)水の溶存ガスを除去する脱気部、(D)水素ガスを脱気後の水に溶解させる溶解部、又は、(A')補給される超純水中の溶存ガスを除去する脱気部、(B')水素ガスを脱気後の水に溶解させる溶解部、(C')調製された水素含有超純水及びユースポイントで使われなった水素含有超純水を保持する密閉式の水槽、(D')送水ポンプ、及び、(E)フィルター、(F)水槽に戻る循環配管系を有し、ユースポイントにおいて必要量を供給することを特徴とする水素含有超純水の供給装置。

Claim (excerpt)：

水素含有超純水を用いる電子材料の洗浄工程において、(A)ユースポイントで使われなかった余剰の水素含有超純水及び補給される超純水の混合水を保持する密閉式の水槽、(B)水槽に保持された水を送水するポンプ、(C)送水される水の溶存ガスを除去する脱気部、(D)水素ガス供給部から供給される水素ガスを脱気後の水に溶解させる溶解部、(E)フィルター及び(F)ユースポイントを経て水槽に戻る循環配管系を有し、水素含有超純水を循環させながらユースポイントにおいて必要量の水素含有超純水を供給することを特徴とする水素含有超純水の供給装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-058528
ウエット処理方法および処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-184893 Applicant：大見忠弘
脱入気装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-125471 Applicant：工業技術院長

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