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J-GLOBAL ID：200903016236075752

フォトレジスト用樹脂溶液及びその製造方法

Inventor：
水谷 能久

About 水谷 能久

, 
栗原 一

About 栗原 一


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (2)： 後藤 幸久 ,  壬生 優子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005351945
Publication number (International publication number)：2007154061
Application date： Dec. 06, 2005
Publication date： Jun. 21, 2007
Summary：
【課題】 微小パーティクル含有量が極めて少ないフォトレジスト用樹脂溶液を得る。【解決手段】 酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Aと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Bとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を塗膜形成用溶媒に溶解したフォトレジスト用樹脂溶液であって、サイズ0.06μm以上のパーティクルの含有量(樹脂濃度20重量%換算)が5000個/ml以下であり、且つ前記フォトレジスト用樹脂の分子量分布が1.5〜2.5であるフォトレジスト用樹脂溶液。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Aと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Bとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を塗膜形成用溶媒に溶解したフォトレジスト用樹脂溶液であって、サイズ0.06μm以上のパーティクルの含有量(樹脂濃度20重量%換算)が5000個/ml以下であり、且つ前記フォトレジスト用樹脂の分子量分布が1.5〜2.5であるフォトレジスト用樹脂溶液。
IPC (4)：
C08F 220/28 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
FI (4)：
C08F220/28 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
F-Term (21)：
2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB56 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100FA30 ,  4J100GC35 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (6)
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