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J-GLOBAL ID：200903016360872237

成膜処理方法及び成膜処理装置

Inventor：
劉 憶軍

About 劉 憶軍

, 
神力 博

About 神力 博


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998148343
Publication number (International publication number)：1999323560
Application date： May. 13, 1998
Publication date： Nov. 26, 1999
Summary：
【要約】【課題】 被処理体の表面に複合材料薄膜を成膜する際に、膜厚と膜組成の均一性を向上させることができる成膜方法を提供する。【解決手段】 活性化エネルギーが異なる金属元素を含む複数の処理ガスを、シャワーヘッド部32のガス噴射孔102A,102Bから処理容器2内へ噴出して供給し、載置台4上に載置された被処理体Wの表面に所定の成膜を施すようにした成膜処理方法において、前記処理ガスの内、活性化エネルギーが高くて反応性が弱い金属元素を含む処理ガスの噴出量を、前記シャワーヘッド部の中心部から周辺部に向けて次第に減少させると共に前記活性化エネルギーが低くて反応性が強い金属元素を含む処理ガスの噴出量を、前記シャワーヘッド部の面内において均一にし、前記被処理体の表面上における前記各処理ガスの金属元素の組成が略同一となるようにする。これにより、被処理体の表面に複合材料薄膜を成膜する際に、膜厚と膜組成の均一性を向上させる。
Claim (excerpt)：
活性化エネルギーが異なる金属元素を含む複数の処理ガスを、シャワーヘッド部のガス噴射孔から処理容器内へ噴出して供給し、載置台上に載置された被処理体の表面に所定の成膜を施すようにした成膜処理方法において、前記処理ガスの内、活性化エネルギーが高くて反応性が弱い金属元素を含む処理ガスの噴出量を、前記シャワーヘッド部の中心部から周辺部に向けて次第に減少させると共に前記活性化エネルギーが低くて反応性が強い金属元素を含む処理ガスの噴出量を、前記シャワーヘッド部の面内において均一にし、前記被処理体の表面上における前記各処理ガスの金属元素の組成が略同一となるようにしたことを特徴とする成膜処理方法。
IPC (4)：
C23C 16/44 ,  C23C 16/40 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31
FI (4)：
C23C 16/44 D ,  C23C 16/40 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (7)
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