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J-GLOBAL ID：200903016600346759

近接場プローブ、及び近接場プローブ製造方法

Inventor： 富永 淳二 ,  阿刀田 伸史 ,  鈴木 良政
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  オリンパス光学工業株式会社
Agent (2)： 鈴江 武彦 (外1名) ,  鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999180088
Publication number (International publication number)：2001004645
Application date： Jun. 25, 1999
Publication date： Jan. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】光の波長に比べ微小な開口部を精密に得る。【解決手段】近接場顕微鏡または近接場記録再生装置に用いられるプローブを製造する近接場プローブ製造方法であり、電圧印加用の対向電極34と接した電解質溶液32と、導電性遮光皮膜でコートされた透明な材質より成る予備成型品10(プローブ)とを対向するように配置し、電解質溶液32と予備成型品10との間を上下動ステージ40を駆動することにより徐々に近接させ、前電解質溶液32と予備成型品10の先端部分(探針部16)とが接触したときに、予備成型品10と対向電極34との間に電圧源46により電圧を印加することで、予備成型品10の先端部分を電気分解で除去して先端部分に開口部を形成する。

Claim (excerpt)：

近接場顕微鏡または近接場記録再生装置に用いられるプローブにおいて、透明な材質より成るプローブを導電性遮光皮膜でコートし、この皮膜のうちプローブ先端部分を電気分解で除去して開口を形成したことを特徴とする近接場プローブ。

IPC (2)：

G01N 37/00 ,  G11B 7/135

FI (3)：

G01N 37/00 E ,  G01N 37/00 Y ,  G11B 7/135 A

F-Term (3)：

5D119AA11 ,  5D119JA34 ,  5D119NA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 近接場顕微装置用探針の作製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-064101   Applicant：株式会社日立製作所
• 光伝搬体プローブの透過孔形成方法および透過孔形成手段を有する走査型プローブ顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-050781   Applicant：セイコー電子工業株式会社
• 微小開口プローブ及び微小開口プローブの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-061032   Applicant：株式会社ニコン
• 多孔質シリコンの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-033095   Applicant：松下電器産業株式会社
• 探針走査型顕微鏡用探針の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-098215   Applicant：松下電器産業株式会社
• 光学システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-192651   Applicant：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
• 特開平4-291310
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Use of solid electrolytic erosion for generating nano-aperture near-field collectors