放射線感受性樹脂組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994305074
Publication number (International publication number)：1995230166
Application date： Dec. 08, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：

【要約】【目的】高解像力でかつ上記「膜厚依存性」の小さい、現像ラチチュードが広く、現像残渣が発生しにくい、耐熱性が高くドライエツチングに対する耐性の高い、放射線感受性樹脂組成物を提供することにある。【構成】放射線感受性化合物がフェノ-ル性水酸基を3個及び/または4個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸ジエステル化合物(A)とフェノ-ル性水酸基を5〜7個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸エステル化合物(B)との混合物を該放射線感受性化合物の30%以上含有する。

Claim (excerpt)：

水不溶性アルカリ可溶性樹脂、水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物及び放射線感受性化合物を含有する放射線感受性樹脂組成物に於いて、該放射線感受性化合物がフェノ-ル性水酸基を3個及び/または4個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸ジエステル化合物(A)とフェノ-ル性水酸基を5〜7個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸エステル化合物(B)との混合物を該放射線感受性化合物の30%以上含有することを特徴とする放射線感受性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 501 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-122938
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-219804 Applicant：住友化学工業株式会社
特開平2-103543

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