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J-GLOBAL ID:200903018580220365
発光ダイオード
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
絹谷 信雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998344452
Publication number (International publication number):2000174344
Application date: Dec. 03, 1998
Publication date: Jun. 23, 2000
Summary:
【要約】【課題】 駆動電圧の上昇を抑え、且つ、低価格で高輝度のAlGaInPの発光ダイオードを提供する。【解決手段】 AlGaInP活性層3を、該AlGaInP活性層3よりバンドギャップエネルギーの高いAlGaInP及びAlGaAsの単層あるいは複数層からなるp型クラッド部4、5とn型クラッド部2とで挟み込み、p型クラッド部4、5側の表面にp側電極9を形成した発光ダイオードにおいて、p型クラッド部4、5の表面のうち上記p側電極9以外の面上に透明導電膜7を形成する。
Claim (excerpt):
AlGaInP活性層を、該AlGaInP活性層よりバンドギャップエネルギーの高いAlGaInP及びAlGaAsの単層あるいは複数層からなるp型クラッド部とn型クラッド部とで挟み込み、p型クラッド部側の表面にp側電極を形成した発光ダイオードにおいて、p型クラッド部の表面のうち上記p側電極以外の面上に透明導電膜を形成したことを特徴とする発光ダイオード。
F-Term (10):
5F041AA21
, 5F041CA04
, 5F041CA34
, 5F041CA35
, 5F041CA36
, 5F041CA65
, 5F041CA82
, 5F041CA85
, 5F041CA88
, 5F041CA92
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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発光ダイオード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-033462
Applicant:昭和電工株式会社
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AlGaInP系発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-216403
Applicant:信越半導体株式会社
-
特開平1-225178
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化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-300144
Applicant:株式会社東芝
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特開昭51-085384
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半導体光電素子に対するITO膜形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-355541
Applicant:大同特殊鋼株式会社
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半導体発光素子、半導体発光素子の電極および半導体発光素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-299072
Applicant:株式会社東芝
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化合物半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-328558
Applicant:株式会社東芝
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面発光型半導体発光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-162525
Applicant:オムロン株式会社
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半導体基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-020443
Applicant:株式会社東芝
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