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J-GLOBAL ID：200903018862823216

加熱処理システムおよびそれに用いる加熱処理ユニット

Inventor：
白川 英一

About 白川 英一

, 
福岡 哲夫

About 福岡 哲夫


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999274610
Publication number (International publication number)：2001102275
Application date： Sep. 28, 1999
Publication date： Apr. 13, 2001
Summary：
【要約】【課題】 シーケンス制御のためのより適切な制御条件(レシピ)を低コストでしかも短期間で開発することができる加熱処理システムおよび加熱処理ユニットを提供すること。【解決手段】 加熱処理システムは、基板Wを所定温度に加熱する加熱プレート51を有する複数の加熱処理ユニットを具備し、これら複数の加熱処理ユニットの少なくとも一つは、その中に複数の温度センサー60が取り付けられ、前記加熱プレート上に載置可能に設けられた温度計測用基板61を有する温度測定ユニット(M・HP)であり、さらに、この温度計測用基板61に取り付けられた温度センサーの出力を記録する記録手段64を具備する。
Claim (excerpt)：
基板を所定温度に加熱する加熱プレートを有する複数の加熱処理ユニットを具備し、これら複数の加熱処理ユニットの少なくとも一つは、その中に複数の温度センサーが取り付けられ、前記加熱プレート上に載置可能に設けられた温度計測用基板を有する温度測定ユニットであり、さらに、この温度計測用基板に取り付けられた温度センサーの出力を記録する記録手段を具備することを特徴とする加熱処理システム。
F-Term (3)：
5F046KA04 ,  5F046KA07 ,  5F046KA10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
  • 熱処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-357411   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭62-069616
  • 特開昭61-235835
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Cited by examiner (12)
  • 熱処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-357411   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭61-235835
  • 熱処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-021933   Applicant：東京エレクトロン株式会社
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