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J-GLOBAL ID:200903019962238333

微細気泡供給装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 穴見 健策
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000198989
Publication number (International publication number):2002011335
Application date: Jun. 30, 2000
Publication date: Jan. 15, 2002
Summary:
【要約】【課題】 故障しにくく耐久性に優れ、さらに、微細気泡を確実に発生させ、しかも大きな吐出量を得て対象液体中に微細気泡を供給する微細気泡供給装置を提供する。【解決手段】 内部に気液旋回可能な柱状空間Sを有する周壁部14と、周壁部の両端において内部を閉鎖するように固定された蓋部16と、を有する旋回容器12は、微細気泡が供給される対象液体L中に配置される。周壁部14には気液旋回円周100の接線方向に吹き出すように柱状空間内に導入させる導入口18を有するとともに、両方の蓋部16には気液導出口22がそれぞれ設けられる。流体供給装置24により導入口から少なくとも液体を柱状空間内に接線方向に加圧導入しつつ旋回流を生じさせて微細気泡を発生させ気液導出口22から同時に液体とともに微細気泡210を対象液体L中に導出供給させる。
Claim (excerpt):
内部に気液旋回可能な柱状空間を有する周壁部と、周壁部の両端において内部を閉鎖するように固定された蓋部と、を有し微細気泡が供給される対象液体中に配置される旋回容器を備え、周壁部には気液旋回円周の接線方向に吹き出すように前記柱状空間に連通し少なくとも液体を柱状空間内に導入させる導入口を有するとともに、両方の蓋部には前記柱状空間の軸方向線上となる位置に気液導出口がそれぞれ設けられ、導入口に接続されて前記柱状空間内に少なくとも液体を加圧導入させる流体供給装置を備え、流体供給装置により柱状空間内に少なくとも液体を接線方向に加圧導入しつつ旋回流を生じさせて微細気泡を発生させ気液導出口から同時に液体とともに微細気泡を対象液体中に導出してなる微細気泡供給装置。
IPC (6):
B01F 5/00 ,  A01G 31/00 602 ,  A01K 63/04 ,  B01F 3/04 ,  B01J 4/00 102 ,  C02F 3/20 ZAB
FI (7):
B01F 5/00 G ,  A01G 31/00 602 ,  A01K 63/04 C ,  B01F 3/04 Z ,  B01F 3/04 A ,  B01J 4/00 102 ,  C02F 3/20 ZAB C
F-Term (16):
2B104EB20 ,  2B314MA23 ,  2B314PA09 ,  4D029AA01 ,  4D029AB05 ,  4D029BB01 ,  4D029BB11 ,  4D029BB13 ,  4G035AB05 ,  4G035AB15 ,  4G035AC44 ,  4G035AE13 ,  4G068AA03 ,  4G068AB01 ,  4G068AB07 ,  4G068AD50
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
  • エアレータ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-032263   Applicant:日鉄鉱業株式会社
  • 特開昭57-117328
  • マイクロバブル噴流浄水装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-185527   Applicant:株式会社テラボンド
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Cited by examiner (11)
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