Pat

J-GLOBAL ID：200903021803392377

シリカ

Inventor： 森 寛 ,  加藤 波奈子 ,  船山 勝矢
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 真田 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002278798
Publication number (International publication number)：2003221223
Application date： Sep. 25, 2002
Publication date： Aug. 05, 2003
Summary：

【要約】【課題】 細孔容積及び比表面積が大きいだけでなく、細孔分布が狭く、不要な金属不純物量を抑えることができ、且つ耐熱性や耐水性等の物性面でも優れるようにする。【解決手段】 細孔の最頻直径(Dmax)が20nm以下のシリカであって、固体Si-NMRでのQ4ピークのケミカルシフトδ(ppm)が下記式(I)を満足するようにする。 -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・(I)

Claim (excerpt)：

細孔の最頻直径(Dmax)が20nm以下のシリカであって、固体Si-NMRでのQ4ピークのケミカルシフトδ(ppm)が下記式(I)を満足することを特徴とする、シリカ。 -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・(I)

F-Term (16)：

4G072AA26 ,  4G072AA27 ,  4G072DD08 ,  4G072DD09 ,  4G072GG01 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072MM01 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072RR19 ,  4G072TT01 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072UU11 ,  4G072UU17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭62-113713号公報
  
• シリカゲルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-185171   Applicant：日本シリカ工業株式会社

Cited by examiner (13)

• 高い比表面積とコントロールされた高構造性を有するシリカゲル及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-284958   Applicant：日本シリカ工業株式会社
• 特開昭62-113713
  
• 特開平2-184514
  
• 特開平2-196015
  
• 特開平2-252612
  
• 特開平4-193708
  
• 高純度シリカガラスの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-137215   Applicant：信越化学工業株式会社
• シリカゲルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-185171   Applicant：日本シリカ工業株式会社
• メソポーラス無機高分子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-192162   Applicant：三菱重工業株式会社
• 新規二酸化ケイ素
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-338077   Applicant：塩野義製薬株式会社
• シリカ微粒子分散液の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-094632   Applicant：王子製紙株式会社
• シリカゲルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-198224   Applicant：三菱化学株式会社
• シリカゲル
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-297457   Applicant：三菱化学株式会社