Pat
J-GLOBAL ID:200903021837222802
プレーナー型ガルバノ装置及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001096587
Publication number (International publication number):2002296517
Application date: Mar. 29, 2001
Publication date: Oct. 09, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 可動板上面へのコイル、絶縁膜、保護膜形成等による可動板の反りの発生を最小限にするプレーナー型ガルバノ装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】反射ミラー面と同一面に引張応力の強い膜を形成したプレーナー型ガルバノ装置とし、シリコン貼り合わせ基板(SOI基板)の上下面を熱酸化してシリコン酸化膜形成する工程と、基板上面側にフォトリソグラフによりコイル(30)、絶縁膜(31)、保護膜32の各パターンを積層する工程と、中間層に至る支持基板(シリコン)を異方性エッチングにより除去する工程と、可動板下面に残留する中間層をドライエッチングにより除去する工程と、シリコン面を露出させた上に反射ミラーを形成する工程を有し、反射ミラー面の下地として引張応力の強い膜を形成する工程を有するプレーナー型ガルバノ装置の製造方法。
Claim (excerpt):
基板に、可動板と可動板を基板に対し揺動可能に軸支するトーションバーを一体に形成し、可動板の一面に反射ミラーを形成し、可動板の他面に駆動用平面コイルを形成し、前記可動板を揺動するプレーナー型ガルバノ装置において、反射ミラー面と同一面に引張応力の強い膜を形成したことを特徴とするプレーナー型ガルバノ装置。
IPC (3):
G02B 26/08
, G02B 5/08
, G02B 26/10 104
FI (3):
G02B 26/08 E
, G02B 5/08 A
, G02B 26/10 104 Z
F-Term (14):
2H041AA12
, 2H041AB14
, 2H041AC04
, 2H041AZ01
, 2H041AZ08
, 2H042DA02
, 2H042DA12
, 2H042DA15
, 2H042DA18
, 2H042DD11
, 2H042DE07
, 2H045AB02
, 2H045AB16
, 2H045AB73
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
微細ミラーアレイのミラー駆動方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-030796
Applicant:三星電機株式会社
-
プレーナ型光走査装置及びその実装構造
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-051805
Applicant:日本信号株式会社
-
微細加工ミラーの改良型光レフレクタ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-604256
Applicant:シーゲイトテクノロジィリミテッドライアビリティカンパニー
-
マイクロ構造体及びその形成法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-272109
Applicant:キヤノン株式会社
-
アクチュエータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-044545
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
光スキャナー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-239665
Applicant:キヤノン株式会社
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Cited by examiner (6)
-
微細ミラーアレイのミラー駆動方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-030796
Applicant:三星電機株式会社
-
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Applicant:日本信号株式会社
-
微細加工ミラーの改良型光レフレクタ
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Application number:特願2000-604256
Applicant:シーゲイトテクノロジィリミテッドライアビリティカンパニー
-
マイクロ構造体及びその形成法
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Application number:特願平6-272109
Applicant:キヤノン株式会社
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アクチュエータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-044545
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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光スキャナー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-239665
Applicant:キヤノン株式会社
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