Pat

J-GLOBAL ID：200903021876223891

ポジ型感光性組成物

Inventor： 児玉 邦彦 ,  佐藤 健一郎 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999158698
Publication number (International publication number)：2000347410
Application date： Jun. 04, 1999
Publication date： Dec. 15, 2000
Summary：

【要約】【課題】 250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用時に、良好な感度、解像度、密着性及びレジストパターンを与え、更に十分な耐ドライエッチング性を示すポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)水酸基で置換された脂肪族基を2つ以上含有する繰り返し構造単位を有し、かつ酸の作用により分解しアルカリ現像液中での樹脂の溶解度が増大するように作用する基を有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)水酸基で置換された脂肪族基を2つ以上含有する繰り返し構造単位を有し、かつ酸の作用により分解しアルカリ現像液中での樹脂の溶解度が増大するように作用する基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (16)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-282664   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-024011   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 1,2-ジオール構造を有する脂環式(メタ)アクリレート誘導体、およびその重合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-093499   Applicant：日本電気株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト、およびそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-128838   Applicant：日本電気株式会社
• フォトレジスト用化合物およびフォトレジスト用樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-135624   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• 感光性高分子化合物及びこれを含むフォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-208947   Applicant：三星電子株式会社