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J-GLOBAL ID:200903022551433837

加速器およびそのビーム出射制御方法、ビーム出射制御装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995009237
Publication number (International publication number):1996203700
Application date: Jan. 24, 1995
Publication date: Aug. 09, 1996
Summary:
【要約】【目的】加速器の「遅い取出し」における電源リップルの影響を排除し、安定なビーム出射制御方式を提供する。【構成】シンクロトロンの励磁電流指令値を、偏向電磁石の電流パターンIBr、集束電磁石の電流パターンIr(IQf)及び発散電磁石の電流パターンIQdのように、同一タイミングの台形状波形として与える。そのうち、電流パターンIrの取り出し区間のみ、高周波を重畳して摂動する。商用周波数f、電源の変換器の相数N、変換器の点弧周期に対する摂動周期の倍数Mとすると、摂動のための高周波の周期=M/N・fとなる。また、高周波の振幅はIrの0.01〜0.1%程度である。これにより、摂動周期の度に集束電磁石の磁場が不安定領域、即ちビームが出やすい領域にスイングされ、出射ビームは高密度のパルスとして安定して取り出され、電源リップルの影響はない。
Claim (excerpt):
偏向電磁石、集束電磁石及び発散電磁石を備え、入射された低速のビームを高速に加速して出射するシンクロトロンのような加速器で、遅い取出しと呼ばれるビームの出射制御方法において、前記集束電磁石の磁場を、ビームの取り出し期間中に、ビームが出にくい安定領域とビームが出やすい安定領域の間で交番的に摂動させることを特徴とする加速器のビーム出射制御方法。
Patent cited by the Patent:
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