プラズマ発生方法及び装置並びにオゾン発生方法及び装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石原勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003344717
Publication number (International publication number)：2005116187
Application date： Oct. 02, 2003
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：

【課題】大気圧若しくはその近傍で高価な雰囲気ガスを必要とせずに安定してプラズマを発生させることができるプラズマ発生方法及び装置を提供する。【解決手段】電圧波形パターンを記憶した記憶部9若しくはパターン発生部と、電圧波形パターンを用いて高周波電圧波形を生成する制御部10と、高周波電圧波形を高電圧の印加電圧に変換する高電圧変換部13と、高周波電圧が印加される一対の電極1、2と、少なくとも一方の電極表面に配設された誘電体3、4と、電極1、2間のプラズマ発生空間5に反応ガス6を導入する手段とを備え、任意の電圧波形パターンを読み出して状況に応じて最適な高周波電圧波形を生成し、高電圧の高周波電圧に変換して電極1、2に印加するようにした。また、オゾン発生においても、同様の構成により低コストの構成にて高い信頼性をもってオゾンの発生効率を向上できる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

任意の電圧波形パターンを読み出し若しくは生成する工程と、電圧波形パターンを用いて高周波電圧波形を生成する工程と、高周波電圧波形を高電圧の高周波電圧に変換する工程と、少なくとも一方の表面に誘電体を配設してなる一対の電極に高周波電圧を印加し、電極間のプラズマ発生空間に反応ガスを導入してプラズマを発生する工程とを有することを特徴とするプラズマ発生方法。

IPC (3)：

H05H1/24 , C01B13/11 , H05H1/00

FI (3)：

H05H1/24 , C01B13/11 K , H05H1/00 A

F-Term (4)：

4G042CA01 , 4G042CC04 , 4G042CC16 , 4G042CD03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特公平6-72308号公報
グロー放電プラズマ処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-133716 Applicant：積水化学工業株式会社
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-379540 Applicant：松下電器産業株式会社

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Cited by examiner (13)

プラズマ反応装置及び薄膜形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-035202 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
無線装置及びその送信波の歪補償方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-075261 Applicant：富士通株式会社
外部入力可能な波形発生器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-156998 Applicant：横河電機株式会社

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