露光装置の調整方法及び露光システム

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001291328
Publication number (International publication number)：2003100599
Application date： Sep. 25, 2001
Publication date： Apr. 04, 2003
Summary：

【要約】【課題】調整に伴うスループットの低下を抑制するとともに、歩留まりの向上を図ることができる露光装置の調整方法、及び露光システムを提供する。【解決手段】露光装置STPnで処理した基板を検査した検査結果に基づいて、露光装置STPnの処理データのうち、基板上の一部の領域に関する処理データを収集し、この収集した処理データに基づいて露光装置STPnの調整を行う。

Claim (excerpt)：

マスクのパターンを基板に転写する露光装置を調整する方法であって、前記露光装置で処理した前記基板を検査した検査結果に基づいて、前記露光装置の処理データのうち、前記基板上の一部の領域に関する処理データを収集し、該収集した前記処理データに基づいて前記露光装置の調整を行うことを特徴とする露光装置の調整方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , H01L 21/66

FI (4)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/66 J , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 514 E

F-Term (16)：

4M106AA01 , 4M106BA14 , 4M106CA16 , 4M106CA38 , 4M106CA40 , 4M106DD23 , 4M106DJ20 , 5F046AA18 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046DA02 , 5F046DA08 , 5F046DA13 , 5F046DA14 , 5F046DD06 , 5F046FC03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (16)

半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-015002 Applicant：株式会社日立製作所
半導体基板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-198219 Applicant：株式会社日立製作所
リソグラフィシステム、露光装置、及びこれらを利用した半導体デバイス製造方泡並びにマシンコントローラ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-200173 Applicant：株式会社ニコン

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