感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996187942
Publication number (International publication number)：1998031310
Application date： Jul. 17, 1996
Publication date： Feb. 03, 1998
Summary：

【要約】【課題】例えば【化1】の重合単位を持つ共重合体および感放射線性酸発生剤からなる感放射線性樹脂組成物。【解決手段】本発明の感放射線性樹脂組成物は、特に耐熱性、解像度およびパターン形状が優れるとともに、PED安定性に優れ、ベーク温度依存性が小さく、プロセス安定性に優れており、高精度の微細パターンを安定して形成することができる。しかも、本発明の感放射線性樹脂組成物は、紫外線、遠紫外線、X線あるいは荷電子線の如き各種放射線に有効に感応するものであり、化学増幅型ポジ型レジストとして極めて有用である。従って、感放射線性樹脂組成物は、今後さらに微細化が進行すると予想される半導体デバイス製造用として好適に使用することができる。

Claim (excerpt)：

(A)下記式(1)【化1】ここで、R1は水素原子またはメチル基である、で表される繰返し単位、下記式(2)【化2】ここで、R2は水素原子またはメチル基であり、R3は水素原子、メトキシ基、アセトキシ基、t-ブトキシ基、t-ブトキシカルボニルオキシ基、t-ブトキシカルボニルメトキシ基、または下記式(2)-1【化3】ここで、R4はメチル基またはエチル基であり、R5は炭素数2〜4のアルキレン基であり、R6は炭素数1〜10の鎖状アルキル基、炭素数3〜10の環状アルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜11のアラルキル基または炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基であり、そしてmは0〜3の数である、で表される基である、で表される繰返し単位、並びに下記式(X)【化4】ここで、R1xとR5xは互いに独立に水素原子またはメチル基であり、R2xとR4xは互いに独立にメチル基またはエチル基であり、R3xは2価の有機基である、で表される分岐鎖単位を有する共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-110395 Applicant：信越化学工業株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-193356 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-018793 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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Cited by examiner (1)

化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-110395 Applicant：信越化学工業株式会社

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