モールド、モールドの製造方法、および、パターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩橋文雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001266989
Publication number (International publication number)：2003077807
Application date： Sep. 04, 2001
Publication date： Mar. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】インプリント法により良好な形状の微細パターン形成を行うことを目的とする。【解決手段】有機膜を基板上に形成する工程と、上記有機膜にプラズマ処理を行ったパターン形成用の凸部又は凹部を有するモールドを前記基板に対向するように圧着させる工程と、前記基板から前記モールドを脱着することによりパターンを形成するパターン形成方法。

Claim (excerpt)：

パターン形成用の凸部又は凹部が形成されている圧着面を有するモールド本体と、前記モールド本体の少なくとも前記圧着面に形成されており、F原子を含むプラズマ処理によって表面が疎水化処理された表面処理層を備えたモールド。

IPC (2)：

H01L 21/027 , H01L 21/3205

FI (2)：

H01L 21/30 502 D , H01L 21/88 B

F-Term (5)：

5F033QQ00 , 5F033QQ54 , 5F033XX03 , 5F033XX34 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

従来の解像度限界を超える光学的リソグラフィ
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-513173 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション
非付着性層を有するスタンプ、該スタンプの形成方法及び修復方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2003-511035 Applicant：ウブドゥカットアクティエボラーグ
平坦な基板表面に硬化フォトレジストのパターン化レリーフを設ける方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-045855 Applicant：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ

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