極端紫外光源装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (3)：宇都宮正明 , 渡部温 , 柳瀬睦肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008104280
Publication number (International publication number)：2009259447
Application date： Apr. 14, 2008
Publication date： Nov. 05, 2009
Summary：

【課題】レーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置において、プラズマから放出されるイオン等の荷電粒子を速やかにチャンバ外に排出する。【解決手段】この極端紫外線光源装置は、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置にターゲット物質を供給するターゲット供給手段と、ターゲット供給手段によって供給されるターゲット物質に対してレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、1つのコイルを用いてプラズマの発生位置に非対称磁場を形成する磁場形成手段と、コイルによって発生される磁力線が向かうチャンバの2つの面の内の少なくとも一方に配置されている荷電粒子回収機構とを具備する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

ターゲット物質にレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生するレーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、前記チャンバ内の所定の位置にターゲット物質を供給するターゲット供給手段と、前記ターゲット供給手段によって供給されるターゲット物質に対してレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、 1つのコイルを用いてプラズマの発生位置に非対称磁場を形成する磁場形成手段と、前記コイルによって発生される磁力線が向かう前記チャンバの2つの面の内の少なくとも一方に配置されている荷電粒子回収機構と、を具備する極端紫外線光源装置。

IPC (2)：

H05G 2/00 , H01L 21/027

FI (2)：

H05G1/00 K , H01L21/30 531S

F-Term (8)：

4C092AA06 , 4C092AA15 , 4C092AA17 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 4C092BD17 , 4C092BD18 , 5F046GC03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

光源装置及びそれを用いた露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-002142 Applicant：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
米国特許第6987279号明細書(第6-8コラム、図4、図6A〜図7)
極端紫外光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-097037 Applicant：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社

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Cited by examiner (8)

極端紫外光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-097037 Applicant：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-179288 Applicant：ウシオ電機株式会社
デブリ軽減システムを有するリソグラフィ装置、デブリ軽減システムを有するEUV放射線発生源、及びデブリを軽減させる方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-546878 Applicant：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.

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