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J-GLOBAL ID：200903032188242620

常圧プラズマ発生用電極の製造方法及び電極構造とこれを利用した常圧プラズマの発生装置

Inventor：
キム タエ ウック

About キム タエ ウック

, 
リュー カン ホ

About リュー カン ホ


Applicant, Patent owner：
ケー.シー.テック カンパニー リミテッド

About ケー.シー.テック カンパニー リミテッド


Agent (1)： 山口 朔生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006224611
Publication number (International publication number)：2007059397
Application date： Aug. 21, 2006
Publication date： Mar. 08, 2007
Summary：
【課題】電極の寿命を延ばし、電極の製造費用を下げるることができる常圧プラズマ発生用電極の製造方法及び電極構造とこれを利用した常圧プラズマの発生装置の提供。【解決手段】プラズマの電極構造300は、プラズマの形成のための高周波電力を供給するため、上下部にお互いに平行を取って向き合う平板型の電源電極311及び接地電極321を具備し、電源電極311及び接地電極321の全表面にそれぞれ酸化被膜層310,320を均一に形成して、電源電極311及び接地電極321の間にプラズマの発生空間330を形成する。【選択図】図3a
Claim (excerpt)：
一対の電極と、 前記一対の電極が相互離隔されてその間に形成されるプラズマの発生空間と、 前記一対の電極の中で少なくとも一つの表面に均一に形成された酸化被膜層を含むことを特徴とする、 プラズマの電極構造。
IPC (6)：
H05H 1/24 ,  C25D 11/04 ,  C25D 11/26 ,  C25D 11/30 ,  C25D 11/34 ,  B08B 7/00
FI (7)：
H05H1/24 ,  C25D11/04 E ,  C25D11/26 302 ,  C25D11/26 301 ,  C25D11/30 ,  C25D11/34 303 ,  B08B7/00
F-Term (3)：
3B116AA02 ,  3B116AB14 ,  3B116BC01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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