ポジ型レジスト組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002074565
Publication number (International publication number)：2003270791
Application date： Mar. 18, 2002
Publication date： Sep. 25, 2003
Summary：

【要約】【課題】ラインエッジラフネスに優れており、パターン倒れが防止され、特に微細なパターンでのフォーカス、露光を変動させてもパターン倒れのない優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、(D)少なくとも3つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有する鎖状化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、(D)少なくとも3つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有する鎖状化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

F-Term (15)：

2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-052637 Applicant：日本合成ゴム株式会社
ポジ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-028623 Applicant：三菱化学株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-174043 Applicant：シップレーカンパニーエルエルシー

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